SK하이닉스, 가우스랩스와 ‘AI 반도체’ 기술 발표

SK하이닉스가 산업용 AI 전문 스타트업 가우스랩스와 함께 22일부터 26일까지 미국 캘리포니아주 새너제이에서 열리는 국제 학회인 ‘SPIE Advanced Lithography+Patterning 2026’(SPIE AL 2026)’에 참가해 AI 기반 반도체 공정 가상 계측 관련 최신 연구성과를 공유한다고 19일 밝혔다.

SPIE AL 2026은 1955년에 미국에서 설립된 광학, 광자학 분야에서 가장 권위 있는 국제 학회인 국제광전자공학회(SPIE, Society of Photo-Optical Instrumentation Engineers)가 주최하는 학술 컨퍼런스다.

올해 SPIE AL 2026에서는 나노리소그래피(Nanolithography)에 활용 가능한 공정 기술, 소재, 장비와 함께 계측, 검사, 공정 제어 등 분야별로 공정 효율을 높이기 위한 다양한 방법론이 제시될 것으로 기대된다. 특히 연산 패터닝(Computational Patterning)을 비롯해 차세대 패터닝 기술들을 소개하는 세션들도 마련됐다.

양사는 구두 발표 세션과 포스터 세션에서 각 1편씩 총 2편의 논문을 발표할 예정이다. SK하이닉스는 그간 반도체 공정에 대한 계측 효율을 높이기 위해 가우스랩스와 함께 긴밀히 협력해 왔다. 2022년부터는 가우스랩스가 개발한 AI 기반 가상 계측 설루션 ‘Panoptes VM’(Virtual Metrology)을 생산 현장에서 활용하고 있다.

김영한 가우스랩스 대표는 “이번 SK하이닉스와의 공동 연구로 선보인 AI 기반 기술은 설루션 도입 이후에도 반도체 제조 현장에서 활용사례를 계속 발굴하고 부가가치를 창출하기 위해 노력해 얻은 성과”라며 “앞으로도 견고한 파트너십을 토대로 새로운 기술을 개발해 제조 생태계 전반을 아우르는 표준 솔루션으로 발전시켜 나가겠다”고 말했다.

변상이 기자
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